检测 PVD 工具除气室中的光阻，减轻可能导致高代价停工和大规模清洗的污染
进行中的金属化晶圆始终可以从先前过程中吸收水蒸汽、其他气体和杂质（例如碳氢化合物和光阻）。 这些气体和杂质会降低薄膜的性能，因此必须在进一步沉积薄膜之前进行脱附，使其脱离晶圆。 PVD 群集工具中的晶圆除气模块正是为这满足这一要求而设计。
使用内置式过程监控器 (IPM) 监控除气过程对确保获得良好的产品产量和 PVD 群集工具吞吐量至关重要。 这些腔室不仅可以察觉晶圆上可能存在的最糟污染情况，而且对确保完全排除挥发物非常重要，挥发物会对沉积薄膜产生不良影响。
INFICON 内置过程监控器 (IPM) 可持续监控除气室，检测受 200mm 和 300mm PVD 群集工具中光阻污染的晶圆。 每个晶圆除气时，IPM 都会对其进行扫描，并且晶圆上由于某块区域除气不彻底或者被遗漏而残留即使极微量的光阻剂组合物时，IPM 都会发出警报。 高灵敏度传感器发送的信号可以用于自动关闭群集工具，以抑制损坏，避免代价高昂的产量问题。
经过对生产工具进行广泛的测试，证明 INFICON IPM 具有高度可靠性，可以帮助消除灾难性的工具污染。
光阻检测器用于 200mm PVD 除气室
Transpector CPM 紧凑型过程监控器
ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION
Technical Information:
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Transpector CPM - Integrated Process Monitor for 300mm High Pressure Degas
English
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 | | Typical output when monitoring wafer degas using INFICON IPM |
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