PVD 툴 탈가스 챔버의 포토레지스트를 검출하여 값비싼 정지시간과 포괄적인 청소를 유발시킬 수 있는 오염을 완화시킵니다
현상 중인 금속화 웨이퍼는 항상 이전 공정에서 수증기, 다른 기체 및 불순물(이산화탄소 및 포토레지스트 등)을 흡수합니다. 이러한 기체 및 불순물은 막 특성을 악화시키기 때문에 막을 증착하기 전에 탈착하여 웨이퍼에서 제거해야 합니다. 웨이퍼 탈가스 모듈은 PVD 클러스터 툴에서 이 요구사항을 충족시킵니다.
통합 공정 모니터(IPM)를 이용한 탈가스 공정 감시는 PVD 클러스터 툴의 우수한 제품 생산량과 처리량을 위해 매우 중요합니다. 이들 챔버는 오염과 관련하여 웨이퍼의 잠재적인 최악의 상태를 볼 뿐만 아니라 증착되는 막에 악영향을 주는 휘발성 물질을 완전히 제거하기 위해서도 매우 중요합니다.
INFICON 통합 공정 모니터(IPM)는 탈가스 챔버를 계속해서 감시하여 200mm 및 300mm PVD 클러스터 툴에서 포토레지스트로 오염된 웨이퍼를 검출합니다. IPM은 탈가스되는 각 웨이퍼를 스캔하여 스트립이 불완전하거나 빠뜨려서 미량의 포토레지스트 화합물이 웨이퍼에 남아 있으면 경보음을 발생시킵니다. 손상을 제한하고 값비싼 생산량 문제를 방지하기 위해 고감도 센서의 신호를 이용해서 자동으로 클러스터 툴을 중단시킬 수 있습니다.
생산 툴에 대한 광범위한 시험에서 신뢰성이 입증된 INFICON IPM은 심각한 툴 오염의 영향을 제거하는데 도움을 줄 수 있습니다.
*200mm PVD 탈가스 챔버용 Preclude 포토레지스트 검출기
Transpector CPM 컴팩트 공정 모니터
ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION
Technical Information:
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Transpector CPM - Integrated Process Monitor for 300mm High Pressure Degas
English
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 | | Typical output when monitoring wafer degas using INFICON IPM |
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