|
|
200mmスパッタエッチングクリーン用Stiletto IPM
|
計測とプロセスコントロールのためのin Situ粒子検出システム
Stiletto IPMはin-Situ計測とプロセスコントロールができる粒子検出システムで、最先端の半導体プロセスにおいて歩留まりと生産力の向上を可能にします。Stilettoはプロセス装置と完全に統合できる初めてのin situ粒子監視(ISPM)システムです。パラメトリックツールデータと融合する時には、粒子の数は、エンジニアが正確な時間と粒子の構成を特定できるように装置の状態によって重複することがあります。それぞれのウェハが作動するごとにStilettoの粒子を検出する機能が、欠陥による歩留まり損失から前例のないほどの保護を行います。
スキャンによってより高い感度
Stilettoレゾナントスキャナは、in situ粒子モニターに使用される固定のレーザービームシステムよりさらに大きなボリュームを継続的にモニターします。それに加えて、同じ体積を繰り返しスキャンすることで、事実上の誤算分を取り除く高度な信号処理技術である自己相関が可能になります。最先端技術の組み合わせが、不具合を回避しながら"キラー粒子"を検出するサブミクロンの感度を実現します。すべてウェハとすべての作動、時間に信頼できる誤り検出が手に入れられます。
特長一覧:
- より大きな範囲の検出と正確な粒子サイジングにレゾナントスキャンニングレーザー
- 先端の信号プロセスが粒子の事象を確認し、事実上の故障アラームを取り除きます。
- 歩留まりを向上させ、テストウェハを減らすことでコストを削減
- 生産力と装置の効用の向上
- センサバス通信は既存のAEC/APCシステムに対応
- プロセスチャンバー、トランスファーチャンバーとロードロック内のポンプラインと表面ウェハへの作業に有効
関連技術情報:
ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION
Brochures and Datasheets:
 |
Brochure - Stiletto Scanning-Laser Particle Detector
English
|
Technical Information:
|
|
Application Note - Endpoint Detection for Chamber Clean / Novellus SPEED Nitride CVD
English
|
|
|
Application Note - Integrated Process Monitoring for Sputter Etch Clean
English
|
|
|
|
|
