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FabGuardセンサ統合および分析システム付きRFセンサ技術
FabGuard統合ソフトウェア付きRFセンサはプロセスの変動性を大幅に軽減するため、リアルタイムでプラズマプロセス分析を提供します
INFICON RFセンサ技術は、プロセス開発と製造プロセス問題の両面における、実際のプラズマ状況の非常に高精度で多変量のRFデータ提供します。高度なプロセスコントロール用のin situセンサのスイートの中で最新な、邪魔にならない直線ケーブル搭載のRFセンサは、FabGuardセンサ統合および分析システム と組み合わせて、正確なチャンバー/プロセスパワーそしてインピーダンス計測といったクリティカルな診断情報、不具合（プラズマアーキングなど）の根本原因の分析、およびチャンバーマッチングのためのプロセス指紋、PVDやCVD、エッチング作業をお届けします。
エンジニアがプロセスされたウェハすべてに対してウェハの実際結果をコントロールする能力を持たせるため、FabGuard付きINFICON RFセンサ技術は、基本および調波の電圧電流の計測および分析の実施することで、ウェハ計測結果の予測となる非常に高精度なモデルを生みだします。FabGuardの比類なく強力なアルゴリズムの能力をRFセンサ技術と組み合わせ、リアルタイムの計測値および簡単に解釈できるユーザーインターフェースによって提供される相関にをベースにすることで、大幅に半導体プロセスの再現性、安定性、精度を改善します。
用途
CVD
- in situプラズマチェンバークリーンプロセスの終点/最適化
- 供給された電源のアクティブパワーコントロール
- FDC (例：プラズマ不安定性、チャージング)
- チャンバーマッチング (RF指紋)
PVD
- 抵抗率などのウェハのパラメータをモデリング
- FDC (例：プラズマ不安定性、チャージング)
- チャンバーマッチング (RF指紋)
エッチング
- エッチングプロセスの終点コントロール
- 供給された電源のアクティブパワーコントロール
- エッチング速度などのプロセスパラメータのモデリング
- FDC
- チャンバーマッチング (RF指紋)
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FabGuard FDC
プロセス、装置、そして製造全体を管理
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