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統合プロセス監視は正確な時間での計測技術でプロセス状態を直接計測することを可能にします。INFICONの統合プロセスモニターは、in situ センサのパワーを利用して、装置、プロセス、ウェハ計測をリアルタイムで把握するため、実際のプロセス状態を計測できます。
IPM用途 - 全計測技術
装置計測
- 真空システム診断
- ベース真空チェック
- Inter-wafer Monitoring
- ヘリウムリークチェック*
- 真空の完全性
- PMリカバリー限定
- 粒子ソース定性
- 誤り検出
プロセス計測
- チャンバークリーニング予測
- 自動統計プロセスコントロール（SPC)
- 自動レポート産生
- チャンバークリーニング終点
- プロセス終点
ウェハ計測
- 薄膜特性モデリング
- Yield Prediction
特長一覧
- 高度なセンサの統合と同期化
- リアルタイムでの監視と複合プロセス変動の解釈
- エクスカーション検出ベースの装置統合
- 装置トラブルシューティングの手動操作
- 局所プロセスと装置データのアーカイブ保管
INFICONの統合プロセスモニター
Precludeフォトレジストディテクター 200mm PVD デガスチャンバー用
PVD装置デガスチャンバーでのフォトレジストを検出し、コストのかかるダウンタイムと大掛かりなクリーンアップを引き起こす汚染を緩和します。
RF センサ技術-FabGuardセンサ統合および分析システム
リアルタイムのプラズマプロセス分析でプロセスの変動を大幅に軽減します。
Stiletto IPM 200mmスパッタエッチングクリーン用
In Situ計測とプロセスコントロール用粒子検出システム
Transpector IPMガス分析システム
高真空チャンバーの自動監視と診断システム
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FabGuard FDC
プロセス、装置、そして製造全体を管理
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