Erkennt Fotolack in Entgasungskammern von Geräten zur physikalischen Dampfabscheidung. Dadurch werden Verunreinigungen reduziert, die zu kostspieligen Ausfallzeiten und Reinigungen führen können.
Ein metallbeschichteter Wafer absorbiert während seiner Entwicklung immer Wasserdampf, andere Gase und Verunreinigungen (z. B. Kohlenwasserstoffe und Fotolack) aus vorherigen Prozessschritten. Diese Gase und Verunreinigungen beeinträchtigen die Schichteigenschaften und müssen daher desorbiert und vom Wafer entfernt werden, bevor weitere Schichten abgeschieden werden. Das Waferentgasungsmodul erfüllt diese Anforderung in einem PVD-Clustergerät.
Die Überwachung des Entgasungsprozesses mit einem Integrated Process Monitor (IPM) ist wichtig, um einen guten Produktertrag und Durchsatz eines PVD-Clustergeräts sicherzustellen. Mithilfe dieser Kammern können die meisten der potenziellen Verunreinigungen auf Wafern erkannt werden, und sie sind für das vollständige Entfernen flüchtiger Stoffe von großer Bedeutung, sodass diese die abgeschiedenen Schichten nicht beeinträchtigen.
Der INFICON Integrated Process Monitor (IPM) überwacht in 200 mm- und 300 mm-PVD-Clustergeräten kontinuierlich die Entgasungskammern und erkennt mit Fotolack verunreinigte Wafer. Der IPM tastet jeden Wafer während des Entgasens ab und gibt einen akustischen Alarm aus, wenn sich aufgrund eines unvollständigen oder fehlerhaften Streifens auch nur Spuren von Fotolackverbindungen auf dem Wafer befinden. Ein Signal von dem hochempfindlichen Sensor kann dazu verwendet werden, ein Clustergerät automatisch abzuschalten, um Schäden und kostspielige Ertragsverluste zu vermeiden.
Der INFICON IPM wurde in umfangreichen Tests mit Produktionsgeräten auf seine Zuverlässigkeit geprüft und hilft, die Auswirkungen von schwerwiegenden Geräteverunreinigungen zu verhindern.
Preclude Photoresist Detector for 200mm PVD Degas Chambers
Transpector CPM Compact Process Monitor
ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION
Technical Information:
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Transpector CPM - Integrated Process Monitor for 300mm High Pressure Degas
English
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 | | Typical output when monitoring wafer degas using INFICON IPM |
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